A 線寬為0.009μm
B 線寬為0.09μm
C 膜厚為0.009μm
D 膜厚為0.09μm
90奈米=90×0.001μm=0.09μm
A 利用超音波作微細加工
B 利用電子束、雷射束或離子束等能量束進行切割或刻痕加工
C 以微放電加工的熱來移除微量材料以微放電加工的熱來移除微量材料
D 沿用半導體製程,將不同功能的元件整合製作在一個晶粒上
超音波加工以磨粒撞擊加工物,無法微細化
A 所涵蓋的尺度從數厘米至奈米
B 微機電系統最主要的特徵就是微小化
C 微機電系統的三個主要元件是微致動器,微感測器與積體電路
D 半導體製程所製造的是動態的晶粒,而微機電所生產的是靜態的微小結構
半導體製程所製造的是靜態的晶粒,而微機電所生產的是能作動的微小化機器或機構
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成功的人找方法 失敗的人找理由
I don't give a damm. (我才不在乎呢)